半導体クリーン環境用ニトリル手袋のグループ規格が正式にリリースされました

Suzhou Honbest Ultra Clean Technology Co.が主に編集し、Suzhou Leader Network Technology Co.、Ltd、Shanghai Saift Semiconductor Material、Xinte Energy Co.、Asia Silicon（Qinghai）Co.、Qinghai Core Measurement Technology Co.が共同編集、半導体クリーン環境用ニトリル手袋5 月 31 日にグループ標準が正式にリリースされました。

簡単に言えば、クリーンルームのスタッフが生産作業中に手から放出される汚染物質による製品の汚染を防ぐために着用する特別な手袋です。ハードディスクドライブ、マイクロエレクトロニクス産業、半導体材料製造、マイクロマシニング産業、光学産業などの製造業および製薬産業のクリーンルーム環境で広く使用されています。高純度のクリーングローブを使用し、原料ポリシリコンの破砕から太陽電池モジュール、ウエハー等の仕上げまで、市場の需要は年々高まっており、クリーングローブの品質は重要な品質管理ポイントです。半導体材料の製造技術の進歩に伴い、製品の品質はますます高くなり、マイクロ汚染が製品の品質に及ぼす影響はますます大きくなっています。半導体材料の製造における環境要件は非常に厳しく、汚染の管理が特に重要になります。