半導体クリーン環境グループ規格向けニトリル手袋が正式に発表されました

主に蘇州ホンベスト超クリーンテクノロジー株式会社が編集し、蘇州リーダーネットワークテクノロジー株式会社、上海サイフト半導体材料、シンテエネルギー株式会社、アジアシリコン（青海）株式会社、青海コア計測テクノロジー株式会社が共同編集しています。半導体製造クリーン環境向けニトリル手袋グループスタンダードが5月31日に正式リリースされました。

簡単に言うと、クリーンルームの作業員が製造作業中に手から放出される汚染物質による製品の汚染を防ぐために着用する特殊な手袋です。ハードディスクドライブ、マイクロエレクトロニクス産業、半導体材料製造、マイクロマシニング産業、光学産業などの製造業や製薬業のクリーンルーム環境で広く使用されており、半導体材料産業、クリーンプラント、研究所などの製造プロセスでは高純度のクリーングローブがよく使用され、市場の需要は年々増加しています。原料ポリシリコンの粉砕から、仕上げ、太陽光発電モジュール、ウェーハなどに至るまで、クリーングローブの品質は重要な品質管理ポイントです。半導体材料製造技術の進歩に伴い、製品の品質はますます高くなり、製品の品質に対する微細汚染の影響はますます大きくなっています。半導体材料の製造中の環境要件は非常に厳しく、汚染の制御は特に重要になっています。